（9：00〜10：00）
1K01 自己組織化構造に基づくナノインプリンティング用モールドの作製（都立大工）゜浅野麻理，四ツ谷昌人，阿相英孝，西尾和之，益田秀樹
1K02 陽極酸化ポーラスアルミナにおける長距離自己規則化条件の検討（都立大工）゜皆木 猛，阿相英孝，西尾和之，益田秀樹
1K03 TiO2 多孔質薄膜の屈折率と多孔度について（京大総合人間・院エネ科）゜松原孝治，大石哲雄，片桐 晃
1K04 液相析出法を用いて作製した金属酸化物薄膜への金属超微粒子の固定化（神戸大工・院自）出来成人，藤田敏之，Hnin
YuYuKo，赤松謙祐，水畑 穣，梶並昭彦
（10：00〜10：45）
1K05 前駆体溶液Dip-coating法による緻密質Ce0.9Gd0.1O1.95薄膜の合成（ファインセラミックス研究組合，名工研）゜王 樹強，淡野正信，前田邦裕
1K06 無電解Niめっきの初期析出に及ぼす触媒化プロセスの影響−水晶振動子法による検討（長岡技大分析計測セ）゜米川武秀，松原 浩，西山 洋，斉藤信雄，井上泰宣
1K07 ESD法により作製したLixMn2O4
薄膜のラマン分光特性（東北大院工）゜伊藤 隆，安杖尚美，モハメディモハメド，内田 勇
【表示材料・素子】
（11：00〜12：00）
1K09 WO3 蒸着膜のEC特性と赤外吸収（静岡大電子研）゜小野島幸史，浦部和雄，小南裕子，中西洋一郎，喜多尾道火児
1K10 結晶WO3 膜のエレクトロクロミック特性とアニールの影響（静岡大電子研）゜高津仁志，浦部和雄，小南裕子，中西洋一郎，喜多尾道火児
1K11 NiOスパッタ膜のエレクトロクロミック特性と赤外吸収（静岡大電子研）゜島田 健，野口正人，浦部和雄，喜多尾道火児
1K12 固体電解質としてTa2O5 を用いた相補型ECセルの湿度による着消色への影響（静岡大電子研）゜山田周平，浦部和雄，喜多尾道火児
【半導体・蛍光体材料】
（13：00〜13：45）
1K17 ホウ素およびリン化ホウ素薄膜の熱電特性（横浜国大工）゜熊代幸伸，平田克史，佐藤浩太，横山 隆
1K18 pn接合を有するAlGaAs系化合物半導体の化学エッチング挙動に及ぼす光照射の影響（三菱電機先端総研）゜執行和浩，川津善平
1K19 アルミン酸ストロンチウム長残光蛍光体の発光機構（新潟大工，静岡大工）゜太田雅壽，武藤悠悟，中村高遠
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