第1日・4月1日(日）
【シンポジウム：薄膜・微粒子成長と微細加工技術の新展開】
主催：情報機能材料研究会
（9：00～10：00）
1S01 規則性アノード酸化ポーラスアルミナ細孔周期の微細化（都立大工）°永江充孝，皆木 猛，西尾和之，益田秀樹
1S02 フラクタル構造に基づくアノード酸化ポーラスアルミナの微細化（都立大工）益田秀樹，°皆木 猛，浅野麻理，西尾和之，阿相英孝
1S03 Al合金の陽極酸化による形状制御したアルミナチューブの形成（都立大工，NTT）°柳下 崇，西尾和之，中尾正史，横尾 篤，玉村敏昭，益田秀樹
1S04 三角断面カーボンナノチューブの作製（都立大工，キャノン，NTT）益田秀樹，佐々木誠，西尾和之，田 透，中尾正史，横尾 篤，玉村敏昭，柳下 崇
（10：00～11：00）
1S05 液相析出（LPD）法による金属超微粒子分散複合酸化物薄膜の合成（神戸大工・院自）出来成人，°Hnin
Yu Yu Ko，赤松謙祐，水畑 穣，梶並昭彦
1S06 液相析出（LPD）法による傾斜組成を有するFe/Ti複合酸化物薄膜の合成（神戸大工）出来成人，°飯塚幸彦，赤松謙祐，水畑 穣，梶並昭彦
1S07 Cu2O超微粒子を用いたAlN基板上への新規なCu析出法の検討（神戸大院自然，三ツ星ベルト）°柳本 博，赤松謙祐，出来成人，後藤和生
1S08 構造規制された化合物薄膜のソフト溶液プロセスによる作製(X)Cd2+-チオ尿素混合水溶液からのCdS薄膜のEICD（岐阜大院工，ノースベンガル大）山口浩一，°Pragati
Mukherjee，吉田 司，箕浦秀樹
（14：00～15：00）
1S21 a-アミノ酸添加により作製した高Bs・高比抵抗CoNiFeC軟磁性薄膜の熱処理効果及び耐食性（早大理工・材研）°志賀大三，水谷 聡，横島時彦，中西卓也，逢坂哲彌
1S22 超純水中の微量金属種のSiウェハ表面析出過程に及ぼす溶存酸素の影響（早大理工，コマツ電子金属）塚野 純，°阿野正洋，高橋直樹，本間敬之，逢坂哲彌，渡辺正晴，永井清司
1S23 Sn電析を用いたX線マイクロカロリーメータ用吸収体の作製および特性評価（早大理工，宇宙科研）°佐藤裕崇，後藤英資，工藤寬之，本間敬之，逢坂哲彌，庄子習一，藤本龍一，満田和久
1S24 無電解Ni―クラスタ―ダイヤモンド複合めっき膜の作製（長岡技大分析計測セ，東京ダイヤモンド工具）°田澤尚志，増田拓也，松原 浩，西山 洋，齋藤信雄，井上泰宣，黛 政男
（15：00～16：00）
1S25 複合メッキを利用したPTFE微粒子のマイクロパターニング（東北大工）°安部 隆，江刺正喜
1S26 電気化学的手法によるマグネタイトFe3O4 膜の作製（同志社大工，阪市工研）°廣松哲明，伊崎昌伸，山下正通
1S27 ソフト溶液プロセスによる酸化亜鉛膜上へのマグネタイトの作製（同志社大工，阪市工研）°瀧野敦史，伊崎昌伸，山下正通
1S28 定電流パルス電解によるZnO薄膜の作製と評価（名工大，JFCC）°野村研二，北野実希，柴田典義，池田章一郎，前田益伸
（16：00～17：00）
1S29 HI溶液中における水素終端化Si（111）表面上への規則的クラスター形成の温度依存性（阪大院基礎工）°今西哲士，中戸義禮
1S30 コバルト（Ⅱ）グリシン錯体からCO3O4
薄膜の電気化学的生成（山口大工）°中岡晃一，大木 藍，中山雅晴，小倉興太郎
1S31 泳動電着で作製した無機層状膜の構造と電気化学特性（熊本大工）°鯉沼陸央，関 大一，松尾 段，中島洋美，矢鳴由美，松本泰道
1S32 無電解メッキによるZn薄膜の形成（金沢工大OEDS R&Dセ）°西尾康宏，廣瀬祐平，小野貴博，前田正彦
（17：00～18：00）
1S33 SiCのエッチング処理に用いるNF3 プラズマの発光分光分析（同志社大工，京大院工，東洋炭素）°清水 渉，田仲健二，甲斐 輔，安部武志，稲葉 稔，小久見善八，東城哲朗，田坂明政
1S34 プラズマアシストCVD法によるグラファイト類似薄膜の作製（Ⅱ）（同志社大工，京大院工）°北吉雅則，坂口眞一郎，同前友宏，吉田周平，安部武志，稲葉 稔，小久見善八，田坂明政
1S35 炭素系室温強磁性体の作製および物性（埼玉大工）°平塚信之，渡辺 潔，柿崎浩一，小林秀彦
1S36 液体金属のホール効果と磁気抵抗効果（半導体及び強磁場での比較）（静岡大工，東北大金研）荻田正巳，中尾光利，黒瀬賢吾，藤波達雄，茂木 巖，淡路 智
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