【シンポジウム：薄膜・微粒子成長と微細加工技術の新展開】
主催：情報機能材料研究会
（9：00～10：00）
1A01 二液相界面電析法における亜鉛析出にともなう電流振動と界面振動（秋田大工資）°多田英司，平塚高史，金児絋征
1A02 非線形ダイナミクスによるCu/Cu2O多層薄膜の自発的形成（阪大院基礎工，Univ.
of Missouri-Rolla）°中西周次，酒井将一郎，J. A. Switzer，中戸義禮
1A03 金属電析過程における非線形現象と特異な結晶成長（阪大院基礎工）°深見一弘，酒井将一郎，多田稔生，中西周次，中戸義禮
1A04 PEGとハライドイオンによる銅めっき抑制効果（東工大院）°竹谷宗将，早瀬仁則，初澤 毅
（10：00～11：00）
1A05 電析プロセスによる立体型微小櫛歯電極の作製（早大理工）°佐藤裕崇，片桐崇史，川上 修，恵美健一，本多信雄，本間敬之，逢坂哲彌，庄子習一
1A06 無電解ニッケルめっきにおけるコーティングの選択性（科技団さきがけ，KAST，関東学院大，東工大）°物部秀二，齋藤裕一，本間英夫，大津元一
1A07 無電解Ni-W-Pめっき膜の初期析出挙動の検討（長岡技大分析計測セ）°石野由紘，松原 浩，西山 洋，斉藤信雄，井上泰宣
1A08 無電解析出反応における析出金属の触媒活性に関する理論計算とエネルギー密度解析（EDA)（早大理工）°島田拓哉，阪田薫穂，中井浩巳，本間敬之，逢坂哲彌
（11：00～12：00）
1A09 反応性スパッタ法による酸化亜鉛薄膜の形成（金沢工大OEDS R &
Dセ）°奥谷 潤，前田正彦
1A10 無電解メッキZn薄膜の酸化特性（金沢工大OEDS R & Dセ）°西尾康宏，前田正彦
1A11 水熱電着法を用いた液相からのPb(ZrxTi1-x)O3
薄膜の合成（立命館大理工）°松代 大，玉置 純，山本善史，松岡政夫
1A12 液相析出（LPD）法による薄膜製膜時における錯化添加剤の影響（神戸大工）°倉谷健太郎，水畑 穣，梶並昭彦，出来成人
（13：00～14：00）
1A17 水ガラスから合成された微粒子シリカの光物性（新潟大工・院，静岡大工）°太田雅壽，中村高遠，安田守宏，髙見実智己
1A18 液晶の光相転移による逆オパールの光学特性の制御（東大院工，KAST）°久保祥一，顧 忠沢，高橋一志，大古善久，佐藤 浩，藤嶋 昭
1A19 陽極酸化ポーラスアルミナを用いたパターンド磁気記録メディア（都立大院工，KAST）°安井賢志，森川卓哉，西尾和之，益田秀樹
1A20 低化成電圧域における陽極酸化アルミナ細孔配列規則化条件の検討（都立大院工，KAST）°大脇孝之，永江充孝，西尾和之，益田秀樹
（14：00～14：45）
1A21 高規則性ポーラスアルミナを用いた膜乳化による単分散エマルションの作製（都立大院工，KAST）°柳下 崇，大道寺孝夫，苫米地泰之，西尾和之，益田秀樹
1A22 形状制御したナノ微粒子の作製と特性（都立大院工，KAST，NTT）°佐々木誠，柳下 崇，西尾和之，中尾正史，横尾 篤，益田秀樹
1A23 アノード酸化ポーラスアルミナの自己規則化メカニズム（工学院大工）°小野幸子，斉藤真希子，石黒美由紀，阿相英孝
【シンポジウム：新技術・新分野への腐食及び表面対策研究への展開】
主催：腐食専門委員会
（15：00～16：00）
1A25 硝酸セリウム（III）で処理した亜鉛電極を硝酸亜鉛とリン酸ナトリウムで改質して作製した保護皮膜の自己補修機構（慶大）荒牧国次
1A26 アルミニウムのすきま腐食における電流ノイズの検討（小山高専）°糸井康彦，松本 智，鈴木さやか，武 成祥，奥山 優
1A27 臭化物イオンを含む溶液中での銅の不均化反応に対するチャンネルフロー電極法を用いた解析（東理大理工）°平田陽一，板垣昌幸，渡辺邦洋
1A28 淡水中での電位―電流曲線と溶液抵抗の同時測定（東理大理工，東電電力技研）°山田祥延，板垣昌幸，渡辺邦洋，額賀孝訓，梅村文夫
（16：00～17：00）
1A29 鉄の陽極酸化反応に伴う電気化学振動への磁場効果（埼玉大理）°宮北康之，干 慶凱，中林誠一郎
1A30 酸素還元反応の磁場効果に対する電極の磁化率依存性（小山高専）°奥山 優，杉山仁志，武 成祥，糸井康彦
1A31 微差圧法による鋼の大気腐食機構の検討（東工大院理工）°西方 篤，鈴木文之，水流 徹
1A32 大気腐食初期過程における微小液滴の形成と成長（東工大院理工）°水流 徹，王 佳，田宮堅一郎，西方 篤
（9：30～10：45）
2A03 NiおよびCr添加鋼の海浜大気腐食形態（物材機構）°野田和彦，片山英樹，升田博之，小玉俊明
2A04 QCMによる大気腐食環境モニタリング（物材機構）°野田和彦，小野孝也，片山英樹，升田博之，小玉俊明
2A05 二段めっき法によるZn-7Al合金めっき層の微細構造と長期暴露試験結果（東理大理・院，那須電機鉄工，電中研狛江）°橘 孝二，盛永康文，黛 正己，鳥羽祐司
2A06 Ni-B無電解めっきに及ぼす超音波の影響（横浜国大院）°蓜島宏基，千葉 淳，小林勝義
2A07 強磁場中におけるNi電析（京大院エネ科，東北大金研）°本山宗主，松島永佳，日下英史，福中康博，石井隆次，茂木 巌
（10：45～12：00）
2A08 Ag-Cu合金電析初期過程におけるEQCM応答特性と析出形態（九工大工）°青柳慎二，軸屋雅之，盛満正嗣，松永守央
2A09 中性浴からのSn-Bi合金めっき（信州大工）°上東雅俊，新井 進，金子紀男，篠原直行
2A10 非シアン浴からのAu-Sn合金めっき（信州大工）°船岡佳員，新井 進，金子紀男，篠原直行
2A11 ZnCl2-NiCl2-EMIC常温溶融塩を用いたアモルファスZn-Ni合金の電析およびその評価（東理大理工）°山下晃司，小浦延幸，松本 太，井手本康
2A12 潤滑油内包マイクロカプセル複合ニッケルめっき（東理大理工，トーテック）°四反田功，板垣昌幸，渡辺邦洋，小谷野英勝
（13：00～13：45）
特2A17 鉄族金属を含む合金析出反応のEQCM法による検討（岡山大工）林 秀孝
（13：45～14：45）
2A20 PC電解液中でのLiの電析とLi+ イオン濃度分布の測定（京大院エネ科）°西川 慶，太田真木，出尾普一，日下英史，福中康博，石井隆次
2A21 アルカリ処理中におけるシリコン上への鉛析出の抑制（山梨大工，富士電機総研）°深澤航太，天野 彰，古屋長一，柴田正実
2A22 シリコンの酸エッチングにおける添加物の影響（2)（山梨大工）°深澤航太，古屋長一，柴田正実
2A23 Niの選択溶解によるCu-Ni積層微小形状物の作製（信州大工）°長谷川貴秀，新井 進，金子紀男，篠原直行
（14：45～15：45）
2A24 電析Zn膜の陽極酸化によるZnO膜の作製（信州大工）°坂口将輝，新井 進，金子紀男，篠原直行
2A25 有機ポリマー上へのSi-Ti系コーティングの試み（富山大工・機器分析セ）°松井博世，蓮覚寺聖一，中村優子
2A26 Macropore Formation in p-Type Silicon in HF Containing Organic
Solutions（Institute of Advanced Energy, Kyoto Univ.）°F. A. Harraz, K.
Kamada, D. Hamm, T. Sakka, Y. H. Ogata
2A27 Etching of Porous Silicon in Basic Solution（Institute of Advanced
Energy, Kyoto Univ.）°D. Hamm, T. Sakka, Y. H. Ogata
（15：45～17：00）
2A28 種々の電解条件下における非水溶液中でのニオブのエッチング制御（山形大工）立花和宏，°武蔵信之，遠藤孝志，仁科辰夫，尾形健明
2A29 ナノインプリンティングプロセスによるアノード酸化ポーラスアルミナの細孔開始点制御（都立大院工，KAST）°永江充孝，大脇孝之，西尾和之，益田秀樹
2A30 難溶性バルブ金属酸化物薄膜の電解合成（熊本大工）°向井麻紀，鎌田 海，松本泰道
2A31 水酸化カルシウム溶液中における鋼板上へのタングステン酸カルシウム皮膜の生成過程（九工大工）°近藤純平，盛満正嗣，松永守央
2A32 有機被覆電極の劣化過程に関する多重伝達関数の測定（東理大理工，物材機構）°板垣昌幸，四田幸子，渡辺邦洋，片山英樹，野田和彦第
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