第1日・4月1日（月）
【シンポジウム：薄膜・微粒子成長と微細加工技術の新展開】
主催：情報機能材料研究会
（13：00～14：00）
1O17 高密度磁気記録用ナノ粒子の合成と集積膜（東工大院総合理工）佐久間洋志，城後 新，谷山智康，北本仁孝，°山崎陽太郎
1O18 溶液化学プロセスによる室温強磁性透明半導体の形成（同志社大，阪市工研，阪府高専）°瀧野敦史，伊崎昌伸，藤田直幸，山下正通
1O19 鉄添加酸化亜鉛膜の加熱相変態と磁気的性質の変化（阪市工研，同志社大工）°伊崎昌伸，瀧野敦史，山下正通
1O20 シングルドメインポーラスアルミナによるパターンド磁気媒体（Ⅱ）（都立大院工，NTT）°永江充孝，皆木 猛，西尾和之，中尾正史，横尾 篤，益田秀樹
（14：00～15：00）
1O21 規制ポーラスアルミナを用いたパターンド磁気メディアの作製（都立大院工，NTT）°安井賢志，皆木 猛，坂本泰久，中尾正史，横尾 篤，西尾和之，益田秀樹
1O22 表面極所活性を利用したシリコンウェハ上への新規ナノ金属構造形成プロセス（早大理工，スタンフォード大）°本間敬之，久保暢宏，河野正洋，逢坂哲彌，P.
A. Pianetta
1O23 水溶液中放電電極を用いた金属・半導体微粒子作成の試み（北大院工）°安住和久，川口 稔，金田彩子，瀬尾眞浩
1O24 溶液中での機械的金属ナノ接合形成（阪大院基礎工）°山田悠介，村越 敬，中戸義禮
（15：00～15：45）
1O25 オンチップバイオセンシングデバイス構築のための各種分子テンプレートの形成（早大理工，北辰工業）°丹羽大介，山田祐規子，井上智之，本川慎二，本間敬之，逢坂哲彌
1O26 新規な析出核を用いたセラミックス上への選択無電解銅めっき（神戸大自然科学，三ツ星ベルト）°柳本 博，出来成人，後藤和生
1O27 先鋭化光ファイバーの無電解めっきにおけるコーティングの選択性（科技団さきがけ，KAST，関東学院大，東工大）°物部秀二，今井寛太郎，石川 薫，本間英夫，大津元一
（15：45～16：30）
1O28 自己組織化単分子層をシード層へ適用した無電解NiReP拡散防止層の作製と評価（早大理工・材研，NEC）逢坂哲彌，高野奈央，黒川哲也，金子具視，°中西卓也，上野和良
1O29 a-アミノ酸添加により作製した高Bs・高比抵抗CoNiFeC軟磁性薄膜の膜中炭素解析（早大理工・材研）°志賀大三，横島時彦，中西卓也，逢坂哲彌
1O30 電析Ni膜の組織と構造（大理，曙ブレーキ中研，東工大院）武井久子，丸山耕一，溝口 正，高木康夫，沼田博雄，入戸野修
（16：30～17：30）
1O31 非線形電気化学振動現象を利用した層状金属薄膜の形成（阪大院基礎工）°中西周次，酒井将一郎，深見一弘，中戸義禮
1O32 非線形なZn電析反応における空間パターン形成の試み（阪大院基礎工）°深見一弘，酒井将一郎，中西周次，中戸義禮
1O33 二液相界面電析法における亜鉛析出にともなう電流振動（秋田大工資）°多田英司，金児紘征
1O34 NF3/O2 プラズマを用いたSiCの表面処理（同志社大工，京大院工，東洋炭素）°甲斐 輔，清水 渉，日比晃弘，岩瀬拓麻，安部武志，稲葉 稔，小久見善八，東城哲朗，田坂明政
第2日・4月2日（火）
（9：00～10：00）
2O01 La-Sr-Co系酸化物の泳動電着における印加電圧と電着性（北大院工）°早川弘一，上田幹人，大塚俊明
2O02 水熱電着法による液相からのチタン酸鉛薄膜の合成（立命館大理工）°松代 大，玉置 純，山本善史，松岡政夫
2O03 液相析出法（LPD）によるニオブ系酸化物薄膜の合成と金属微粒子による複合化（神戸大工・院自）°出来成人，Hnin
Yu Yu Ko，岩下英史，水畑 穣，梶並昭彦
2O04 液相析出（LPD）法による傾斜複合酸化物薄膜の作製とその組成制御（神戸大工）出来成人，°飯塚幸彦，水畑 穣，梶並昭彦
（10：00～10：45）
2O05 有機分子アノード反応を利用する酸化チタン薄膜の作製（岐阜大院工）°澤谷清一，吉田 司，大矢智一，伴 隆幸，高橋康隆，箕浦秀樹
2O06 光電気化学エッチングによるナノポーラスTiO2 の創成に及ぼすPt修飾の効果（岐阜大院工）°杉浦 隆，増田大祐，吉田 司，箕浦秀樹
2O07 酸化チタンをコートしたアルミナメンブレンの作製（長岡技大化学系）°Sittidej
Teekateerawej，西野純一，野坂芳雄
（10：45～11：30）
2O08 インプリント処理したアルミニウム上でのアノード酸化皮膜の孔発生過程（工学院大工，NTT，都立大院工）°小野幸子，阿相英孝，山口輝記，広瀬智一，小池理恵，中尾正史，益田秀樹
2O09 四角開口を持つアノード酸化アルミナの成長過程（工学院大工，NTT，都立大院工）°阿相英孝，小野幸子，広瀬智一，山口輝記，中尾正史，益田秀樹
2O10 熱処理によるアノード酸化ポーラスアルミナの溶解抑制効果（工学院大工）°阿相英孝，田辺久美子，小野幸子
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