H会場
第1日・4月1日（火）
【シンポジウム：キャパシタの科学と技術の新展開】
主催：キャパシタ技術委員会
(10：00〜11：00)
1H05 電力貯蔵用途を目指した電気二重層キャパシタの開発（明電舎総研，中部電力電力技研）°渡辺裕之，安藤保雄，杉本重幸，小川重明
1H06 多層カーボンナノチューブの電気二重層容量特性（群馬大工）°白石壮志，仁科直也，井田百合子，大谷朝男
1H07 MnO2/カーボンナノチューブ擬似電気化学キャパシタの性能評価（東大院工）°家住久美子，小林武史，温 慶茄，高橋 宏
1H08 金属・活性炭複合電極の担持金属微粒化の検討（静岡大工）°岡島敬一，佐久本尚武，須藤雅夫
(11：00〜12：00)
1H09 多孔質マイクロ電極による化合物担持カーボンの検討（長岡技大院工，東北大院工）原 佑一，梅田 実，°伊藤 隆，Mohamed Mohamedi，内田 勇
特1H10 キャパシタを内蔵したプリント配線板の要素技術（日立化成総研）山本和徳
(13：00〜14：00)
特1H17 キャパシターハイブリッドバス・トラックの開発（日産ディーゼル）佐々木正和
1H20 FeS2/カーボンナノコンポジットと電気化学キャパシタ（東京農工大院工）°町田健治，尾関洋平，古内 圭，直井勝彦
(14：00〜15：00)
特1H21 炭素電極細孔内におけるイオンの状態解析とキャパシタ特性（旭硝子中研）平塚和也
1H24 電気二重層キャパシタの特性におよぼす有機電解液の影響（関西大工）°松田好晴，藤川純一，濱田景子
(15：00〜16：00)
1H25 第一原理分子軌道計算によるキャパシタ用電解液の耐電圧解析（松下電子部品開技セ・コンデンサビジネス）°前嶋宏行，森分博紀，伊藤靖幸，高向芳典
1H26 プロトン伝導性ポリマー電解質の電気二重層キャパシタへの応用（山口大工）喬 錦麗，吉本信子，石川正司，°森田昌行
1H27 サイクリックインドール超分子と電気化学キャパシタII（東京農工大院工）°竹之内秀章，平木礼美，直井勝彦
1H28 リボン型有機硫黄超分子と電気化学キャパシタV（東京農工大院工）°荻原信宏，加藤晶子，直井勝彦
(16：00〜17：00)
1H29 カーボン2542πスタック有機超分子ナノコンポジットと電気化学キャパシタ（V）（東京農工大院工）°末松俊造，中島ゆみえ，長野有紀，直井勝彦
1H30 TiO2 多孔体の新規合成とLiインターカレーション特性（長崎大工）°山田博俊，大和貴紀，勝木靖子，森口 勇，工藤徹一
1H31 層状酸化ルテニウムの電気化学スーパーキャパシタ特性（信州大繊維）°岩田英希，安永 裕，杉本 渉，村上 泰，高須芳雄
1H32 ルチル型Ti・V複合酸化物の電気化学スーパーキャパシタ特性（信州大繊維）°横島克典，杉本 渉，村上 泰，高須芳雄
第2日・4月2日（木）
(10：00〜11：00)
2H05 Nb-Si合金のアノード酸化皮膜の生成挙動と誘電特性（北大院工，慶大経済，東北大金材研，キャボットスーパーメタル）°幅崎浩樹，松尾太郎，金野英隆，清水健一，永田晋二，松本和芳，高山幸一，小田幸男
2H06 窒素添加したニオブ陽極の漏れ電流特性（三洋電機マテリアルデバイス研）矢野 睦，°高谷和宏，木本 衛，西尾晃治
2H07 有機金属化学蒸着法及びアノード酸化によるAl-Nb複合酸化物皮膜形成（北大院工，東北大金材研）°阪田英治，坂入正敏，高橋英明，永田晋二
2H08 ニオブアノード酸化誘電体皮膜の膜質に対する電解液温度の影響（工学院大工）°大舘広和，阿相英孝，小野幸子
(11：00〜12：00)
2H09 パターニングプロセスによる(100)配向アルミニウムのピット配列制御（都立大院工，CREST）°西尾和之，苫米地泰之，林 里奈，益田秀樹
特2H10 Al電解コンデンサ用電極箔のエッチング開始点制御（都立大院工）益田秀樹
第3日・4月3日（金）
(9：45〜11：00)
3H04 大気圧ハライドCVDによるInN薄膜の作製と構造制御（静岡大工）高橋直行，°杉浦 永，中村高遠
3H05 ZnOの超高速成長（静岡大工）高橋直行，°木邨光行，中村高遠
3H06 液相法を用いたPZT前駆体溶液による薄膜作製（富山大工・機器分析セ）蓮覚寺聖一，°小川裕行，中村優子
3H07 FeCl3-CH3CSNH2 を用いるパイライト薄膜の作製（静岡大工）高橋直行，°矢冨琢磨，中村高遠
3H08 NF3/O2 プラズマを用いたSiCの平滑エッチング（同志社大工，東洋炭素D. C. T）°渡辺英次，甲斐 輔，山田周平，東城哲朗，稲葉 稔，田坂明政
(11：00〜12：00)
3H09 溶融塩電着法によるホウ素ウエハーの熱電特性（IV）（横浜国大院工）°熊代幸伸，尾崎史朗，佐藤浩太，横山 隆
3H10 大気圧ハライドCVDにより作製したFe4N薄膜のFMRによる磁気特性の検討（分子研，セントアンドリュース大，静岡大工）高橋直行，°竹山知陽，高橋正志，中村高遠，加藤立久，古川 貢，スミスグラハム，リーディピーター，オーテスコリン
3H11 近接昇華型CVD法によるZnOの低温合成と評価（長岡技大化学）°西野純一，野坂芳雄
3H12 分子計算環境プラットフォーム「NEW-RYUGA」の開発（東北大院工・未来科技共同研セ）°三浦隆治，遠藤 明，久保百司，宮本 明
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