電気化学75回大会　"F会場"

第2日・3月30日（日）　
【シンポジウム：マイクロ～ナノ構造形成のための先端技術－エレクトロニクス～バイオの広範囲な応用展開】　　
共催：情報機能材料研究会，電子材料委員会　

　（9:15～10:30）

2F02　球状単分散なコアシェル型セリア/ポリマーハイブリッド微粒子およびその分散液の合成（産総研）○伊豆典哉,松原一郎,伊藤敏雄,西堀麻衣子,申ウソク
2F03　マグネタイトナノ粒子の粒径および表面修飾が溶液分散性に及ぼす影響（早大）○高浜慎太郎,飯田広範,高柳浩介,中西卓也,逢坂哲彌
2F04　低温溶液反応による酸化亜鉛ナノロッド膜の作製（東京工芸大）山田勝実,○白石隆司
2F05　半導体ナノ粒子の交互積層によるヘテロ接合形成と光電気化学特性（名大,阪大）○亀山達矢,岡崎健一,上松太郎,桑畑進,高木克彦,鳥本　司
2F06　高規則性ポーラスアルミナを用いた膜乳化プロセスにもとづく単分散無機系ナノ粒子の形成（JSTさきがけ,KAST,首都大東京）柳下　崇,○前島有加里,西尾和之,益田秀樹

　（10:45～12:00）

2F08　金ナノ粒子をBuilding-blockとした自己集合体の作製と電気的および電気化学的特性評価（阪府大）○森田亮輔,山本陽二郎,椎木弘,長岡　勉
2F09　金ナノ粒子を用いた新規めっきによる導電性ビーズの作製とその複合化に関する検討（阪府大）○山本陽二郎,太田　至,椎木　弘,長岡　勉
2F10　パープルゴールド(Al₂Au)のアノード酸化によるAuナノ粒子の形成と光学特性（首都大東京,KAST,JSPS）○西尾和之,近藤敏彰,益田秀樹
2F11　ガラスディスク基板上への電析CoPt磁性ナノドットアレイの作製（早大）○有川勇輝,大内隆成,本間敬之
2F12　ナノスクラッチ法による電極ドットパターンの形成とPtめっき（長岡技科大）○吉仕　彰,梅田　実

第3日・3月31日（月）　

　（9:15～10:00）

3F02　クエン酸系無電解Ni-Bめっきの初期析出形態について（長岡技科大）永井太一
3F03　Co還元無電解めっきによる銀薄膜の形成（関西大,情報通信研究機構）新宮原正三,○井上史大,原田優作,田中秀吉,山本和広
3F04　無電解ZnO析出に与える溶存酸素とカウンターアニオンの影響（大阪市工研,京大,奥野製薬,豊橋技科大）○品川　勉,邑瀬邦明,大友さとみ,片山順一,伊崎昌伸

　（10:00～10:45）

3F05　遷移金属イオンを含む逆オパール型層状複水酸化物の薄膜化と特性評価（熊本大）○岡山寛子,鯉沼陸央,松本泰道
3F06　泳動電着法を用いた超撥水薄膜の作成（東工大）○荻原仁志,岡垣　淳,佐治哲夫
3F07　ワイヤ電極を用いたシリコン切断（スライシング）技術の開発2－高速化の検討－（阪大）○李　佳龍,Mohamed Shaker Salem,平井　豪,池田　茂,松村道雄

　（11:00～12:00）

3F09　光透過性ポーラスアルミナモールドの作製と光インプリントへの応用（KAST,首都大東京）○柳下　崇,熊谷奈緒子,西尾和之,益田秀樹
3F10　全湿式ブロックコポリマーリソグラフィーによる表面ナノ規則構造の作製（東工大,静岡大）○渡辺亮子,鎌田香織,彌田智一,坂口浩司
3F11　ポーラスアルミナにもとづくナノポーラスカーボンの作製（首都大東京,横浜国大,KAST）○森下翔斗,渡邉正義,柳下　崇,西尾和之,益田秀樹
3F12　Metallic Patterning on Si Surface Through Self-Organized Materials Used as a Mask（工学院大,SwissFederalLaboratoriesforMaterialsTestingandResearch）○坂本聖士,Laetitia Philippe,Mikhael Bechelany,Johann Michler,阿相英孝,小野幸子

　（13:00～14:00）

3F17　ブロックコポリマーテンプレートによる磁性金属ナノシリンダーアレイの作製（東工大）捧　武史,鎌田香織,○彌田智一
3F18　金属微粒子援用HFエッチングにより作製したシリコン微細孔への無電解金属充填（兵庫県立大）○平野達也,阿部　真,松田貴士,福室直樹,八重真治,松田　均
3F19　Conductive biocompatible polymer patterning inside microfluidic channel for cellular investigation（阪大,北陸先端大院大）○Mohammad Mosharraf Hossain,斎藤真人,Minhaz Uddin Ahmed,民谷栄一
3F20　ロッド形状酸化亜鉛粒子を鋳型とする多孔質金属電極の作製と電極触媒活性評価（名大）○岡崎健一,小塚智之,鳥本　司

　（14:30～15:45）

3F23　金属触媒エッチングで形成したシリコンマイクロホールの形態に及ぼす触媒種の影響（工学院大）○阿相英孝,新井房雄,小野幸子
3F24　シリコン基板上への多孔質パラジウム層形成とその応用（東理大,UniversidadeFederaldoABCSantoAndre,SP,Brasil）○松坂　拓,齋藤陽介,ジョゼジェラルドアルベスブリットネト ,早瀬仁則
3F25　Si陽極化成法によるナノ微細孔アレイ形成に及ぼす印加電圧の影響（早大）○鵜澤健太郎,磯部哲彦,穐本譲史,本間敬之
3F26　ポーラスマンガン酸化物のアノード形成とその酸素還元特性（山口大）○福田真貴,中山雅晴
3F27　ナノインプリント制御によるアルミナナノホール配列のピッチ縮小に関する研究（関西大,情報通信研究機構）新宮原正三,○丸尾　賢,山下尊史,中尾正史

　（16:00～17:00）

3F29　多孔質シリコンへのポリピロール電解重合による微細構造形成（京大,新潟大）○深見一弘,作花哲夫,尾形幸生,山内　健,坪川紀夫
3F30　Pore formation in p-type silicon by silver-assisted electrolysis（京大）○Mohamed L.Chourou,Yosuke L. Kawamura,Kazuhiro Fukami,TetsuoSakka,Yukio H.Ogata
3F31　ナノインデンテーション法を用いたシリコン上での配列孔形成（京大）○岡山晴亮,深見一弘,作花哲夫,尾形幸生
3F32　金粒子触媒を利用したシリコンへのミクロン孔の形成と孔への銅の充填（阪大）李　佳龍,○津留親佑,松村道雄,池田　茂